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電子轟擊爐，利用加速的電子流轟擊物料，使物料加熱的一種電爐，加熱溫度可達約3500℃，具有調節控制方便，已廣泛用于金屬提純，單晶硅的生長，特種材料的熔煉和高溫X射線衍射儀的加熱裝置等。
用高速電子轟擊物料使之加熱熔化的電爐。在真空爐殼內，由陰極電子槍發射電子，電子束受加速陽極的高壓電場的作用加速，轟擊位于陽極的金屬物料，使之發熱熔化，滴入水冷銅結晶器中凝固成錠。整個密閉爐體由電子發射系統、真空系統以及金屬熔煉系統構 成。由于電子束可經電磁聚焦裝置高度密集，所以可在物料受轟擊的部位產生很高的溫度。電子束爐適合于熔煉高熔點、高純度的金屬，如W、Mo、Ta、Nb等。
電子束轟擊爐特點是：
①可以達到很高的功率密度，*大可達106W/cm2，用于熔煉高熔點材料，工件自身淬火金屬熱處理及進行快速表面硬化；
②控制方便、精度高，只要調節一下通過聚焦線圈的電流，電子束的加熱面積就能改變至100倍以上，電子束的功率密度、方向、轟擊時間等都可以*確凋節和控制，可用于選擇性硬化處理；
③電子束轟擊加熱．需要在發射器和待加熱物之問產生受控制的電流，這只有在真空中才能做到；
④爐料在真空室內進行加熱或熔化，除氣好、無耐火材料污染，熔煉的材料純度高；
⑤工作時產生X射線，需采取防護措施；
⑥沒備和技術比較復雜。
