電子束熔煉的概念是M.V.皮拉尼(M.VonPirani)于1905年提出的，但直到50年代中期美國成功地開發電子束熔煉爐后才在熔煉難熔金屬鎢、鑰、擔等的冶金領域獲得工業應用。電子束熔煉是在較高真空(10’‘~10”Pa)下進行的，與其他真空熔煉法(真空感應熔煉，真空電弧熔煉)相比，熔煉成本較高，但可制取更高品質的優良錠子，因此電子束熔煉仍是熔煉難熔金屬、活潑金屬和高品質合金的重要手段。電子束真空熔煉爐

電子束表面熱處理以功率密度為1護~10’W/cm“的電子束對工件表面進行掃描，使受電子束轟擊點的溫度迅速上升(上升速率為1護~l護C/s)達到相變或熔化溫度，在電子束停止轟擊后，靠材料自身熱傳導使該點快速冷卻的表面處理方法。其優點是表面質量好、生產率高、工件不易變形、可用于局部處理、能耗小等。電子束表面熱處理主要有相變處理、硬化凝固處理和表面合金化三種類型。d一onz*shuJiore電子束加熱(eleetronbeamheating)真空條件下利用電子束轟擊物料產生的熱能進行的電加熱。

被燈絲加熱到一定溫度的陰極所發射的電子在加速電場的作用下形成電子束并被加速到很高的速度(例如，電壓為25kV時，電子速度達9.4X10‘km/s).電子束通過陽極孔后進人等電位空間，由于電子之間相互排斥，電子束會逐漸發散。電磁透鏡用來對電子進行聚焦，使之保持一定形狀。電磁偏轉器和掃描器用來按加熱要求改變電子束的方向.電子束轟擊被加熱物料時，其絕大部分動能轉變成熱能使物料加熱，有一小部分轉變成X射線。

電子束加熱原理：工作室通常是用不銹鋼制成的真空容器，外周必要時用水套或水管冷卻，內部有工作臺或柑渦、物料支承、輸送機構等;外殼壁上有連接電子槍、真空機組、測溫裝置等的連接管。真空系統由機械泵、增壓泵和擴散泵等組成。工作室真空度一般為10一‘一10一3Pa;軸向槍通常另配一套真空機組，槍室真空度在10--3Pa以上。高壓電源電子槍在直流高壓下工作，如熔煉爐的工作電壓為10~35kV，焊接設備的為30~200kV。電源用三相橋式整流器。整流元件用閘流管或高壓硅堆。硅堆有體積小、效率高、起動快等優點，隨著電路保護技術的進步，其應用已越來越多。電壓調節通常用飽和電抗器或磁性調壓器。高壓電源配有過電壓、過電流和各種連鎖保護裝置，以確保人身和設備的安全。應用電子束加熱主要用于金屬的熔煉、焊接、表面處理以及金屬和非金屬的刻蝕、鉆孔、切割、電子束燕發被膜、電子束排煙排氣處理等。